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纳米级抛光液

发布时间:2020/1/8 10:13:16  点击:153次


背景技术:

本发明属于研磨料技术领域,特别涉及纳米级抛光液的研制。

目前,计算机磁头抛光液大都使用颗粒尺寸在微米量级的固体粉作为磨料,将它们分散于石油蒸馆物中可用作磁头抛光液。国际上产品主要由美田Engis 公司和日本Cosmos公司等厂家供应。但是,经这种抛光液抛光的计算机磁头表面在高倍显微镜下存在明显的划痕和镶嵌的颗粒,抛光后的表面粗糙度R为0.45-0 80m.。这种磁头表面镀类金刚石膜(DLC)后,抗腐蚀性能和力学性能差,严重影响了产品的使用寿命,很难提高产品的质量和档次。特别是随计算机硬磁盘密度的迅速提高,磁盘/磁头间隙已趋近于15纳米以下,磁头和磁盘的表面粗糙度、划痕、杂质颗粒等会对计算机磁盘造成致命危害。于是,现有的抛光液的性能已不适应于计算机磁盘的发展,并常影响工厂的正常生产。
本发明的目的是为克服已有技术的不足之处,提出了一种新型的纳米抛光液及其制备方法,可将产品的表面抛光质量提高到亚纳米量级,以适应于计算机磁头、光学器件和陶瓷等高精度表面研磨和抛光之用。
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